电沉积组分调制合金的技术进展及工艺设计

• 作者: 刘佑厚 刘凤岭
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 组分调制合金 电沉积 多层膜结构 新材料
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 14-17
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 3372字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2001.01.004

摘要

组分调制合金的多层膜结构中由于存在薄膜效应、界面效应、耦合效应和周期性效应而使特性增强或产生出新颖的特性。利用电化学方法可制造结构可控的组分调制合金新材料，综述了电沉积组分调制合金的技术进展，并分析了电解液组分、pH值、温度、搅拌速度、脉冲电位和时间等电沉积工艺参数对多层膜组分、结构和调制波长的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘佑厚		6	123	5.0	6.0
2	刘凤岭		2	15	2.0	2.0