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用双源蒸发台制作混合电路用的Cr·SiO薄膜电阻器
用双源蒸发台制作混合电路用的Cr·SiO薄膜电阻器
作者:
赵亚民
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
双源蒸发台
薄膜电阻器
混合电路
铬
氧化硅
摘要:
本文简要介绍使用钟罩型真空镀膜机和双源蒸发工艺制作高质量Cr·SiO薄膜电阻器的探索与实践,结果表明,这是一种基于原有设备的具有工艺简单稳定、流程短而效率较高的实用新工艺,完全可以替代原有工艺而投入生产。
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内容分析
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文献信息
篇名
用双源蒸发台制作混合电路用的Cr·SiO薄膜电阻器
来源期刊
电子元器件应用
学科
工学
关键词
双源蒸发台
薄膜电阻器
混合电路
铬
氧化硅
年,卷(期)
2001,(10)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
36-38
页数
3页
分类号
TM544
字数
语种
DOI
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单位
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赵亚民
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双源蒸发台
薄膜电阻器
混合电路
铬
氧化硅
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元器件应用
主办单位:
中国电子元件行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1563-4795
CN:
开本:
大16开
出版地:
西安市科技路37号海星城市广场B座240
邮发代号:
创刊时间:
1999
语种:
chi
出版文献量(篇)
5842
总下载数(次)
7
总被引数(次)
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