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摘要:
采用反应溅射方法制作TaNx电阻薄膜,并通过溅射Ni、Au形成双层共面电极.研究了溅射条件对电阻薄膜组分的影响以及此类电阻器的微波特性.结果显示,溅射工作真空度小于0.5 Pa,氮气体积分数大于5%时,可以得到阻值稳定的六方晶体结构TaNx电阻薄膜,其共面电极的电阻器使用频率上限大于20 GHz.
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文献信息
篇名 微波电路用共面电极TaNx薄膜片式电阻器
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 TaNx 共面电极 薄膜片式电阻器
年,卷(期) 2009,(8) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 55-58
页数 4页 分类号 TM54
字数 2443字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.08.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 程超 2 3 1.0 1.0
2 赵海飞 2 3 1.0 1.0
3 冯毅龙 2 3 1.0 1.0
4 杨俊锋 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
TaNx
共面电极
薄膜片式电阻器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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