nc-Si∶H薄膜的三阶非线性光学性质

• 作者: 张文珍 李世忱 王加贤 郭亨群 郭震宁
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: nc-Si∶H薄膜 简并四波混频 光学非线性
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 非线性光学
• 页码范围: 435-438
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1|O437
• 字数: 2744字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2001.05.013

摘要

用简并四波混频技术(DFWM)研究了nc-Si∶H薄膜的三阶非线性光学性质，观察到了这种纳米薄膜材料的位相共轭信号，测得晶态比为XC1=15%和XC2=30%的二个样品在光波波长为589 nm处的三阶非线性极化率分别为χ1(3)=3.8×10-6 esu和χ2(3)=4.3×10-7 esu，并对其光学非线性产生机理作了探讨。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王加贤	华侨大学应用物理系	81	268	9.0	12.0
2	李世忱	天津大学精密仪器与光电子工程学院	85	733	15.0	21.0
3	张文珍	华侨大学应用物理系	45	226	8.0	13.0
4	郭震宁	华侨大学应用物理系	61	336	10.0	15.0
5	郭亨群	华侨大学应用物理系	40	180	8.0	11.0