电子器件基础

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔硅冷阴极 场发射特性 制备条件 工艺设计 热压粘接 电子技术 真空测量仪 氧化条件 液晶 玻璃窗
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 18-18
• 页数: 1页
• 分类号: TN

摘要

【正】 0105602GaAs 与玻璃窗口热压粘接工艺设计[刊]/冯驰//真空电子技术—2000.(6).—40～41(C)0105603阳极氧化条件对多孔硅冷阴极场发射特性的影响[刊]/丁邦建//液晶与显示.—2000。15(4)—273～277(C)研究丁多孔硅的制备条件对多孔硅冷阴极场发射特性的影响,实验表明多孔硅的制备条件如电解电流