氧化层对硅片上生长Au膜微结构的影响

• 作者: 俞波 石旺舟
• 来源期刊: 汕头大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化层 Au-As合金薄膜 界面结构
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 页码范围: 54-57
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1395字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4217.2002.01.011

摘要

采用X-射线衍射与扫描电镜观察相结合研究了中间氧化层对硅片上沉积Au-As合金薄膜的微结构的影响.结果表明:氧化层一方面影响Au-As合金膜的成核生长,使其晶粒细化和生长速率下降;另一方面,氧化层降低了Au-Si界面扩散反应的程度,阻止新的Si-Au合金相的生成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石旺舟	汕头大学物理学系	15	85	5.0	9.0
2	俞波	汕头大学物理学系	4	24	2.0	4.0