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微分电位溶出法测定水中痕量铜
微分电位溶出法测定水中痕量铜
作者:
张文德
赵纳鹏
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
铜
微分电位溶出法
水样
摘要:
研究了同位镀汞电位溶出法测定铜的最佳分析条件.试验结果表明,在0.0085mol/LH2SO4-HNO3介质中,铜的峰电位为-0.05V,检出限为0.5μg/L,线性范围为2.5~20μg/L.用于环境水质标样、纯净水中铜的测定,结果令人满意.
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文献信息
篇名
微分电位溶出法测定水中痕量铜
来源期刊
冶金分析
学科
化学
关键词
铜
微分电位溶出法
水样
年,卷(期)
2002,(1)
所属期刊栏目
工作简报
研究方向
页码范围
52-53
页数
2页
分类号
O657.14
字数
941字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-7571.2002.01.019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
赵纳鹏
2
9
2.0
2.0
传播情况
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引文网络
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微分电位溶出法
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
冶金分析
主办单位:
中国钢研科技集团有限公司(钢铁研究总院)
中国金属学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-7571
CN:
11-2030/TF
开本:
16开
出版地:
北京学院南路76号
邮发代号:
82-157
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
4518
总下载数(次)
7
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