磁场辅助电化学抛光试验研究

• 作者: 周锦进 徐文骥 方建成 金洙吉
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁场 电化学抛光 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 24-26，32
• 页数: 4页
• 分类号: TG580.68
• 字数: 2681字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2002.03.007

摘要

从带电离子在电磁场中的受力行为和运动状态入手,试验研究了磁场对阳极溶解速度、产物扩散速度、材料去除速度、极间电流的影响,最后还分析了磁场对电解液的搅拌作用.研究表明由于洛仑兹力和电场力的共同作用,改变了离子的运动轨迹,提高了峰点或侧面的溶解速度和产物的扩散速度,从而有效地改善了表面粗糙度;峰点的去除速度远大于无磁场时的去除速度,谷点的去除速度远小于无磁场时的去除速度,因此从微观上说磁场辅助电化学抛光对基体的损害较小,精度保持性好;磁场的搅拌加快了液相传质,改变了电化学反应,使极间电流强度增大,抛光效率提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方建成	华侨大学机电及自动化学院	35	308	10.0	16.0
3	徐文骥	大连理工大学机械工程学院	114	857	15.0	22.0
4	金洙吉	大连理工大学机械工程学院	105	1334	18.0	32.0
5	周锦进	大连理工大学机械工程学院	106	1029	18.0	25.0