激光烧蚀溅射沉积薄膜的研究现状

• 作者: 宋光乐
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光烧蚀 溅射沉积 光谱分析 等离子体辐射 固体薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 综合述评
• 页码范围: 115-118
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2723字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2002.01.028

摘要

激光烧蚀溅射沉积薄膜技术是一项新的固体薄膜制造技术.文内简单地介绍了这项技术产生的历史背景、进化过程;根据相关文献,详细描述了这项技术的原理;基于最新资料,全面讨论了这项技术的国内外研究现状;总结了该技术的优、缺点;客观评价了该技术的应用前景和研究意义;并对该技术的今后研究方向提出了建议.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋光乐	山东临沂师范学院物理系	3	16	2.0	3.0