氮化碳薄膜的制备及研究现状

• 作者: 侯明东 宋银 段敬来 王志光 赵志明
• 来源期刊: 高压物理学报
• 关键词: 氮化碳薄膜 制备 性能表征
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 页码范围: 311-318
• 页数: 8页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5773.2003.04.012

摘要

氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景.目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法.文中对氮化碳的结构、性质、制备、性能表征以及研究现状进行了比较详细的介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志光	中国科学院近代物理研究所	39	183	8.0	11.0
2	宋银	中国科学院近代物理研究所	25	108	6.0	9.0
3	赵志明	中国科学院近代物理研究所	8	46	3.0	6.0
4	侯明东	中国科学院近代物理研究所	41	177	7.0	12.0
5	段敬来	中国科学院近代物理研究所	10	56	3.0	7.0