氮化碳薄膜制备及性能研究进展

• 作者: 宋力昕 肖兴成 胡行方
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化碳 超硬膜 制备工艺 性能
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 343-351
• 页数: 9页
• 分类号: O484
• 字数: 6554字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.1999.03.003

摘要

本文对氮化碳的结构及制备工艺如溅射、化学气相沉积、崐离子束辅助沉积、激光烧蚀等作了较为详细的总结与分析,对各种制备工艺条件下的氮化碳的性能包括力学、电学及光学性能进行了讨论,并对今后的发展趋势提出了自己的见解.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋力昕	中国科学院上海硅酸盐研究所	51	585	15.0	22.0
2	胡行方	中国科学院上海硅酸盐研究所	62	2055	24.0	44.0
3	肖兴成	中国科学院上海硅酸盐研究所	9	195	8.0	9.0