等离子辅助镀膜技术

• 作者: 徐颖 曹健林 贾克辉 高劲松
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子辅助沉积技术 光学镀膜
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 623-626
• 页数: 4页
• 分类号: TN205
• 字数: 1757字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2002.06.019

摘要

传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积,但由于成膜分子的能量较低,使沉积的薄膜排列密度很低,其性能和块状材料区别很大,已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构.薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料,近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题.本文报道了我国自己研制的等离子体源(GIS)的性能指标、用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量,以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐颖	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室光学技术中心	38	349	9.0	18.0
2	高劲松	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室光学技术中心	63	701	16.0	23.0
3	曹健林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室光学技术中心	37	328	10.0	17.0
4	贾克辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室光学技术中心	2	14	2.0	2.0