2μm厚Fe—N薄膜矫顽力的研究

• 作者: 周剑平 顾有松
• 来源期刊: 金属材料研究
• 学科: 工学
• 关键词: FE-N薄膜 矫顽力 磁场热处理 磁记录介质
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: TQ58

摘要

本文研究了RF磁控溅射法制备的Fe-N薄膜，经过250℃场热处理后，厚度为2μm薄膜的矫顽力随溅射功率变化的规律。实验发现，高功率可以减少薄膜中杂质元素的相对含量，降低矫顽力（小于80A／m），饱和磁化强度大于2．2T，这种材料可满足高密度存储写入头材料的要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾有松	北京科技大学材料物理与化学系	32	162	7.0	10.0
2	周剑平	中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室	7	20	3.0	4.0