Fe-Ti-N薄膜的结构和性能研究

• 作者: 乔利杰 常香荣 李丹 李福燊 田中卓 顾有松
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Fe-Ti-N薄膜 结构 磁性
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 页码范围: 481-485
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2754字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2002.05.013

摘要

Fe-Ti-N薄膜在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备,膜厚为630～780nm.当氮含量在Fe-Ti(3.9at.%)-N(8.8at.%) 和 Fe-Ti(3.3at.%)-N(13.5at.%)范围内,薄膜由α′和Ti2N沉淀组成,4πMs超过纯铁,最高可达2.38T;而 Hc下降为89A/m,可以满足针对10Gb/in2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乔利杰	北京科技大学材料物理系	139	834	15.0	21.0
2	田中卓	北京科技大学材料物理系	14	75	5.0	8.0
3	顾有松	北京科技大学材料物理系	32	162	7.0	10.0
4	常香荣	北京科技大学材料物理系	14	87	6.0	8.0
5	李福燊	北京科技大学材料物理系	52	373	10.0	17.0
6	李丹	北京科技大学材料物理系	45	145	5.0	11.0