复杂微光刻图形版图设计系统

• 作者: 李友 胡勇 陈宝钦 黄广宇
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 版图 设计 图形变换
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 15-18,23
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3625字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种自主开发的复杂微光刻图形版图绘制系统.该系统能根据用户的要求自动成组地批处理各种圆环、螺旋线、椭圆环、扇形、条形码等图形,以及根据用户输入的任意表达式来生成特殊形状图形,同时它具有方便的图形形态处理功能,包括图形任意角度的旋转、旋转拷贝功能;重叠图形和回字图形挖空并加辅助线功能;位图格式图形轮廓化处理功能及图形切割、切块功能等.该系统极大地提高了目前集成电路版图设计工具软件绘图功能,使其更能适用于微电子、微光学、微机电系统等微光刻领域的复杂图形设计,是一种实用性很强的软件模块.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡勇	中科院微电子中心微光刻光掩模实验室	5	52	5.0	5.0
2	黄广宇	中科院微电子中心微光刻光掩模实验室	1	9	1.0	1.0
3	陈宝钦	中科院微电子中心微光刻光掩模实验室	1	9	1.0	1.0
4	李友	中科院微电子中心微光刻光掩模实验室	1	9	1.0	1.0