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当前IC的工艺与技术新动向
当前IC的工艺与技术新动向
作者:
翁寿松
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
IC工艺 微细化 300 mm圆片
摘要:
介绍了当前IC几项新工艺、新技术的发展动向,包括设计尺寸微细化工艺、300mm圆片工艺、铜互连技术、无铅工艺和嵌入式技术.
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文献信息
篇名
当前IC的工艺与技术新动向
来源期刊
电子工业专用设备
学科
工学
关键词
IC工艺 微细化 300 mm圆片
年,卷(期)
2002,(1)
所属期刊栏目
综述
研究方向
页码范围
7-10
页数
4页
分类号
TN405
字数
5026字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-4507.2002.01.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
翁寿松
17
19
3.0
4.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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节点文献
IC工艺 微细化 300 mm圆片
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
总被引数(次)
10002
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