光学光刻现状及设备市场

• 作者: 童志义
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光学光刻 技术现状 设备市场 制造商
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 2-6
• 页数: 5页
• 分类号: TN605
• 字数: 5457字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2002.01.002

摘要

概述了当前光学光刻技术现状及今后发展目标,并结合设备市场介绍了ASML、Canon、Nikon 3大设备制造商概况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	童志义		11	139	4.0	11.0