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摘要:
离子辅助轰击能有效改善非晶碳(a-C)膜的质量.用脉冲激光(532 nm, 3.5×108 W/c m2)烧蚀石墨靶,同时用Ar+轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C膜.用扫描电镜和喇曼光谱对膜结构作了分析.结果表明:在较低气压和较高的射频功率下制备的a-C膜质量较好,同时,激光重复频率对膜生长也有显著影响.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 氩离子辅助轰击对激光烧蚀法制备非晶碳膜的影响
来源期刊 湘潭大学自然科学学报 学科 物理学
关键词 离子辅助轰击 激光烧蚀法 非晶碳膜
年,卷(期) 2002,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 97-100
页数 4页 分类号 O484.1
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭建 湘潭大学物理系 44 134 6.0 9.0
2 杨益民 湘潭大学物理系 11 11 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
离子辅助轰击
激光烧蚀法
非晶碳膜
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
湘潭大学学报(自然科学版)
双月刊
2096-644X
43-1549/N
大16开
湖南省湘潭市
42-33
1978
chi
出版文献量(篇)
3518
总下载数(次)
1
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14911
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