薄膜生长初期形貌的计算机模拟与改进

• 作者: 刘涌 宋晨路 韩高荣
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 计算机模拟 初期形貌 沉积流量
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 393-395
• 页数: 3页
• 分类号: TB43|TP391.9
• 字数: 1836字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2002.03.022

摘要

本文模拟了在低温基底上超薄膜沉积初期表面形貌.文章模拟多个沉积原子同时移动的生长过程,引入了宏观量沉积流量影响.在此基础上讨论了各向异性的影响作用,并改进了模型,修改了基底吸附位置的排列方式,从而获得了与实验结果更相近的图样.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学材料与化工学院	187	1971	24.0	35.0
2	宋晨路	浙江大学材料与化工学院	37	372	10.0	18.0
3	刘涌	浙江大学材料与化工学院	18	59	5.0	6.0