光波干涉测量结深

• 作者: 王传庆
• 来源期刊: 计量技术
• 学科: 工学
• 关键词: 结深 光波干涉 干涉条纹
• 年，卷（期）: 2002,（8）
• 所属期刊栏目: 测量与设备
• 页码范围: 14-15
• 页数: 2页
• 分类号: TB9
• 字数: 1184字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0771.2002.08.005

摘要

在半导体芯片制造过程中,结深是重要的工艺参数之一.本文介绍用光波干涉法测量结深,操作简便,精度高,特别对10μm以下的结深测量,有其独到的优越性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王传庆	中国华晶电子集团公司计量处	3	4	1.0	2.0