H+辐照前后W涂层表面的XPS分析

• 作者: 杨斌 汪德志 雷家荣 黄宁康
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束混合 W薄膜 H+辐照 XPS分析
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 1958字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2002.01.010

摘要

对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对W的结合能的影响.分析结果表明,沉积的W膜中除了单质钨外,还有部分钨的氧化物,H+辐照结果表明,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移;钨的氧化物有所减少,说明污染的氧化物在一定程度上被择优溅射掉.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨斌	教育部辐射物理及技术重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	3	9	2.0	3.0
2	雷家荣	教育部辐射物理及技术重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	2	7	2.0	2.0
3	汪德志	教育部辐射物理及技术重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	3	9	2.0	3.0
4	黄宁康	教育部辐射物理及技术重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	5	11	2.0	3.0