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提高晶闸管器件对di/dt的耐受能力的途径
提高晶闸管器件对di/dt的耐受能力的途径
作者:
任伟忠
颜廷刚
鲁广斌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
晶闸管
di/dt
抑制
摘要:
介绍了晶闸管器件的通态电流上升率di/dt参数及其损坏晶闸管器件的机理,并进一步介绍了提高晶闸管器件的通态di/dt耐量的设计和工艺方法,及应用过程中限制晶闸管阳极电路的电流上升率,保护晶闸管器件的方法.
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文献信息
篇名
提高晶闸管器件对di/dt的耐受能力的途径
来源期刊
信息技术
学科
工学
关键词
晶闸管
di/dt
抑制
年,卷(期)
2002,(9)
所属期刊栏目
研究与探讨
研究方向
页码范围
67-68
页数
2页
分类号
TN34
字数
1558字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1009-2552.2002.09.029
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
颜廷刚
3
7
1.0
2.0
2
鲁广斌
2
7
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2.0
3
任伟忠
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引文网络
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参考文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
晶闸管
di/dt
抑制
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
信息技术
主办单位:
黑龙江省信息技术学会
中国电子信息产业发展研究院
中国信息产业部电子信息中心
出版周期:
月刊
ISSN:
1009-2552
CN:
23-1557/TN
开本:
大16开
出版地:
哈尔滨市南岗区黄河路122号
邮发代号:
14-36
创刊时间:
1977
语种:
chi
出版文献量(篇)
11355
总下载数(次)
31
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