电子束直写直栅和T形栅工艺技术应用

• 作者: 刘玉贵 江泽流 王维军 罗四维
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光技术 亚半微米直栅与T形栅 GaAs器件
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 湿微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 42-43
• 页数: 2页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 963字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.04.010

摘要

介绍了用电子束直写技术在GaAs圆片上制作≤0.5μm栅和T形栅的工艺技术,并在GaAs器件的研制中得到应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗四维		3	2	1.0	1.0
2	王维军		3	2	1.0	1.0
3	江泽流		3	2	1.0	1.0
4	刘玉贵		8	15	2.0	3.0