等离子体渗氮与氮化钛膜沉积一体化工艺对膜基结合力的影响

• 作者: 关颖 叶锡生 张宏 林东生 肖志刚
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体发生器 渗氮 氮化钛膜
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 77-80
• 页数: 4页
• 分类号: TN136
• 字数: 1482字
• 语种: 中文

摘要

在一种增强型多弧镀膜装置上,实现了低温等离子体渗氮同氮化钛硬质膜沉积联合处理工艺.通过扫描电镜对膜层结构的分析,氮化钛硬质膜与基体之间具有相适应的力学性能,并在膜基界面处形成氮化物的混合层.通过对膜基结合力的定量测试,证实该工艺大幅度提高了膜基结合力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖志刚		29	227	8.0	13.0
2	林东生		33	148	8.0	10.0
3	叶锡生		43	316	9.0	15.0
4	关颖		9	60	4.0	7.0
5	张宏		1	1	1.0	1.0