在Si片上蒸发Cr／SiO电阻膜工艺技术研究

• 作者: 丁长江 吴静 李新玉 段春丽 王刘坤 赵有洲
• 来源期刊: 混合微电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅片 Cr／SiO电阻膜 混合集成电路 蒸发工艺 电阻温度系数
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: TN45
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵有洲		2	0	0.0	0.0
2	段春丽		1	0	0.0	0.0
3	李新玉		1	0	0.0	0.0
4	丁长江		1	0	0.0	0.0
5	吴静		1	0	0.0	0.0
6	王刘坤		1	0	0.0	0.0