红外焦平面阵列基于黑体的非均匀性校正方法中的限制因素

• 作者: 刘会通 刘靖 徐隆 易新建
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 红外焦平面阵列 非均匀性校正 响应漂移
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TN215
• 字数: 2414字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2003.03.011

摘要

以基本的红外辐射理论为依据,阐述了红外焦平面阵列非均匀性校正的物理原理,首次综合性地论述了标定类方法所存在的三个基本限制因素,并重点给出了红外焦平面阵列响应漂移的实验结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中科技大学图像识别与人工智能研究所	102	1261	21.0	29.0
2	刘靖	华中科技大学光电子工程系	30	339	9.0	17.0
3	徐隆	华中科技大学图像识别与人工智能研究所	4	104	4.0	4.0
4	刘会通	华中科技大学光电子工程系	9	240	8.0	9.0