薄膜制备新技术及其应用研究

• 作者: 王学华 薛亦渝
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 制备技术 研究进展
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 65-70
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 5374字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2003.05.017

摘要

综述了近几年国内外在薄膜制备技术方面的研究进展,着重比较了蒸发沉积、溅射沉积、激光沉积、CVD、MBE和Sol-Gel等技术的优缺点,分析了这些技术在薄膜制备中应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛亦渝	武汉理工大学材料科学与工程学院	48	532	13.0	21.0
2	王学华	武汉化工学院材料科学与工程学院	7	139	4.0	7.0