ZnO薄膜的制备及其特性研究

• 作者: 严祥安 余花娃 刘静 张英堂 王晶
• 来源期刊: 西安工程大学学报
• 关键词: 表面声波 磁控溅射 ZnO薄膜 X射线衍射仪 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 基础科学
• 页码范围: 536-540
• 页数: 5页
• 分类号: O472+.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-649X.2007.04.025

摘要

采用射频磁控溅射技术生长出高质量(002)晶面取向的ZnO薄膜.通过XRD和AFM研究了射频功率和氧气比例对ZnO薄膜的结构和表面形貌的影响.研究结果显示,射频功率在50W下氧气比例为45%时,所生长的ZnO薄膜可以用于制作高质量的表面声波仪(SAW).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘静	陕西师范大学物理学与信息技术学院	38	280	7.0	16.0
2	张英堂	西安工程大学理学院	16	24	3.0	4.0
3	余花娃	西安工程大学理学院	18	39	3.0	5.0
4	王晶	西安工程大学理学院	17	29	3.0	4.0
5	严祥安	西安工程大学理学院	28	59	4.0	5.0