液态源雾化化学沉积法制备(Pb,La)TiO3薄膜

• 作者: 张之圣 曾建平 李小图 胡明
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 镧钛酸铅 液态源雾化化学沉积 薄膜 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 页码范围: 556-559
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2712字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2003.06.007

摘要

研究了在Pt/Ti/SiO2/Si基片上用液态源雾化化学沉积法制备镧钛酸铅[(Pb, La)TiO3,PLT]薄膜的工艺, 并分析了各种因素对其相结构的影响.采用金属有机物热分解工艺的先体溶液, 在沉积阶段, 用超声波将先体溶液雾化, 产生微米级的汽雾, 由载气(Ar)引入沉积室进行沉积, 并在沉积室进行预热处理. 重复上述过程, 直到膜厚达到要求, 再进行退火处理得到均匀、致密的薄膜.此工艺各项参数如下:沉积前沉积室内气压为4×10-3Pa; 沉积时沉积室内气压为8×103～9×103 Pa, 沉积时基片温度为20～25 ℃; 预处理温度为300 ℃; 最佳热处理温度为600 ℃; 超声雾化器工作频率为1.7 MHz; 薄膜沉积速率为3 nm/min.XRD和SEM图分析说明,制备的铁电薄膜具有钙钛矿结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李小图	天津大学电子信息工程学院	9	55	3.0	7.0
2	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
3	张之圣	天津大学电子信息工程学院	57	580	15.0	21.0
4	曾建平	天津大学电子信息工程学院	2	4	1.0	2.0