偏晶向(111)硅片闪耀光栅的设计

• 作者: 吴一辉 张平 王淑荣 鞠挥
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: (111)硅片 闪耀光栅 体硅技术 微制造 MEMS 湿法腐蚀
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 18-21,26
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2087字
• 语种: 中文

摘要

利用硅单晶的特殊结构可以设计出不同角度的闪耀光栅,再使用MEMS的紫外光刻、各向异性腐蚀等常规工艺就可以完成硅闪耀光栅的制作.设计了一种利用偏转晶向(111)硅片制作小角度闪耀光栅的方法,避免了利用其它晶向的硅片制作闪耀光栅的缺点.利用这种方法制作了线宽为4 μm的硅闪耀光栅,使用原子力显微镜(AFM)进行了光栅表面形貌测试,得到平均表面粗糙度为110.94 nm,试验结果表明制作的硅光栅样片具有良好光学特性的反射表面和光栅槽形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张平	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	180	2022	23.0	35.0
2	王淑荣	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	105	757	15.0	23.0
3	吴一辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	126	1121	18.0	27.0
4	鞠挥	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	9	256	4.0	9.0