现代表面分析技术在半导体材料中的应用

• 作者: 严如岳 任殿胜 王为 郝建民 马农农
• 来源期刊: 现代仪器与医疗
• 关键词: 半导体 砷化镓 表面分析
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 新技术应用
• 页码范围: 20-22
• 页数: 3页
• 分类号: TN3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7916.2003.03.006

摘要

本文简要介绍TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱仪)、XRD(X射线双晶衍射仪)、SIMS(二次离子质谱仪)和XPS(X射线光电子能谱仪)等现代分析仪器的特点,着重报道这些分析技术在分析砷化镓抛光片的表面痕量沾污、表面晶体完整性、表面镓砷比、表面化学组成、表面氧含量以及氧化层厚度等方面的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王为	天津大学化工学院	125	1597	22.0	34.0
2	郝建民	中国电子科技集团公司第四十六研究所	23	56	4.0	6.0
3	马农农	中国电子科技集团公司第四十六研究所	7	12	2.0	3.0
4	任殿胜	天津大学化工学院	6	42	5.0	6.0
8	严如岳	中国电子科技集团公司第四十六研究所	10	50	5.0	6.0