DUV光致抗蚀剂的研究进展Ⅱ--光产酸源、阻溶剂等添加剂部分

• 作者: 余尚先 张改莲 杨凌露
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 化学
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: O63
• 字数: 2596字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2003.02.008

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张改莲	北京师范大学化学系	17	188	8.0	13.0
2	余尚先	北京师范大学化学系	39	145	7.0	9.0
3	杨凌露	北京师范大学化学系	8	77	5.0	8.0