金刚石薄膜光学镀层材料的应力特性研究

• 作者: 吕反修 吝君瑜 孙斌 杨武保 王古常 王小兵 程勇
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 光学镀层 MPCVD PLD
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜技术
• 页码范围: 57-60
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3264字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2003.01.015

摘要

金刚石膜作为光学镀层时,应力的控制是一项关键技术,本文实验研究了金刚石膜和类金刚石膜作为光学镀层材料时的应力特性,并对此进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程勇	武汉军械士官学校光电技术研究所	63	546	12.0	20.0
2	王古常	武汉军械士官学校光电技术研究所	24	295	10.0	16.0
3	王小兵	武汉军械士官学校光电技术研究所	37	346	11.0	17.0
4	孙斌	武汉军械士官学校光电技术研究所	43	454	11.0	20.0
5	吕反修	北京科技大学材料工程学院	151	1208	18.0	24.0
6	吝君瑜	武汉军械士官学校光电技术研究所	5	10	1.0	3.0
7	杨武保	北京科技大学材料工程学院	3	24	2.0	3.0