利用(110)硅片制作微反射镜

• 作者: 刘彩霞 张歆东 张龙 徐宝琨 董玮 陈维友
• 来源期刊: 吉林大学学报(信息科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 微反射镜 {111}晶面 刻蚀
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 电子科学与工程
• 页码范围: 97-99
• 页数: 3页
• 分类号: TN25|TN929.11
• 字数: 1344字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-5896.2003.02.001

摘要

采用体硅微机械加工方法,通过光刻、反应离子刻蚀和氢氧化钾水溶液湿法刻蚀等工艺,根据(110)硅片结晶学原理,在(110)硅片上制作出微反射镜.微反射镜的镜面为{111}晶面,利用扇形定位区域,精确地沿(110)硅片的{111}晶面进行定向腐蚀,可使微反射镜镜面垂直度达到90°±1°,表面粗糙度经测量低于6 nm,在上面蒸金后其反射率可达95%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐宝琨	吉林大学集成光电子国家重点联合实验室	37	616	8.0	24.0
2	张歆东	吉林大学集成光电子国家重点联合实验室	15	127	5.0	11.0
3	刘彩霞	吉林大学集成光电子国家重点联合实验室	33	129	6.0	9.0
4	董玮	吉林大学集成光电子国家重点联合实验室	24	129	6.0	11.0
5	张龙	吉林大学集成光电子国家重点联合实验室	44	153	7.0	10.0
6	陈维友	吉林大学集成光电子国家重点联合实验室	24	82	5.0	8.0