硼注入金刚石的分子动力学模拟

• 作者: 何贤昶 戴永兵 李荣斌 沈荷生 胡晓君
• 来源期刊: 上海交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石 硼 离子注入 分子动力学
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 所属期刊栏目: 金属学与金属工艺
• 页码范围: 1513-1516
• 页数: 4页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 3186字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-2467.2003.10.005

摘要

利用Tersoff势和分子动力学方法研究了初始动能为500 eV的硼粒子注入金刚石的微观行为.结果表明:单个500 eV的硼原子注入后金刚石仍保持长程有序结构;表面层原子向内驰豫,邻近表达层的其他各层原子向外驰豫,表面层与近表层原子的间距减少了15%,而第2层原子与第3层原子之间的间距增加了1.5%;硼原子穿透到表面层下0.4 nm处,然后再向表面扩散;表面层产生0.4 MPa的压应力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈荷生	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	45	494	12.0	20.0
2	李荣斌	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	14	187	7.0	13.0
3	戴永兵	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	21	170	7.0	12.0
4	胡晓君	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	15	124	6.0	10.0
5	何贤昶	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	25	247	8.0	15.0