纳米SiO2的光学特性研究

• 作者: 刘雪峰 汪斌华 涂铭旌 黄婉霞
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2 紫外-可见光谱 反射 吸收峰
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 514-517
• 页数: 4页
• 分类号: TB383|O734
• 字数: 1418字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.04.012

摘要

纳米SiO2的独特结构使其表现出一些特殊的光学特性,但文献对其紫外区光学性质的报道不一致.本文对几种不同类型的纳米SiO2进行了紫外-可见光谱测试,结果表明纳米SiO2在紫外-可见光范围内具有较强的光反射性能,但在λ=230nm附近有一强度不一的吸收峰,该吸收峰的强度可能与纳米SiO2的结构和表面状态有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	涂铭旌	四川大学材料科学与工程学院	451	5014	31.0	47.0
2	黄婉霞	四川大学材料科学与工程学院	86	1255	18.0	32.0
3	刘雪峰	四川大学材料科学与工程学院	15	193	6.0	13.0
4	汪斌华	四川大学材料科学与工程学院	10	475	9.0	10.0