用于纳米光电子器件加工的纳米金属膜的制作

• 作者: 刘庆纲 匡登峰 王战 白海力 米文博 胡小唐
• 来源期刊: 仪器仪表学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米器件 AFM针尖诱导氧化 Ti膜
• 年，卷（期）: 2003,（z1）
• 所属期刊栏目: 新原理、新技术、新材料及新工艺
• 页码范围: 563-565
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 1737字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3087.2003.z1.187

摘要

在利用Top-Down方式加工纳米电子器件和纳米光电子器件的研究中,纳米薄膜的制作和加工技术是一个关键环节.采用金属Ti-SOS结构的纳米器件,Ti膜的厚度和成膜质量成为影响基于AFM针尖诱导氧化加工Ti纳米氧化线/电路图形结构质量的重要因素.文中叙述了Ti膜的制备和检测方法,给出了纳米Ti膜的制备和在一定环境下对其进行氧化加工的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘庆纲	天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室	45	189	8.0	10.0
2	匡登峰	天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室	9	20	3.0	3.0
3	胡小唐	天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室	205	1913	21.0	33.0
4	王战	天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室	2	8	1.0	2.0
5	米文博	天津大学应用物理学院	4	4	1.0	2.0
6	白海力	天津大学应用物理学院	12	62	4.0	7.0