ZrO2/SiO2多层膜的化学法制备研究

• 作者: 付甜 吴广明 孙骐 张志华 杨帆 沈军 王珏
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 溶胶-凝胶工艺 水热法 紫外光处理 激光损伤阈值 有机粘接剂
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 326-330
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2898字
• 语种: 中文

摘要

分别以ZrOCl2*8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶-凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶.用旋转镀膜法分别在K9 玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜.采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层开裂和膜间渗透等问题.应用扫描电子显微镜观测了薄膜的表面和剖面微观形貌,并用椭偏仪测得薄膜的厚度和折射率,研究了薄膜厚度、折射率与热处理温度、紫外光处理时间的关系,对所获得薄膜的紫外-可见、红外光谱进行了分析.用输出波长1064nm,脉宽15ns的电光调Q激光系统产生的强激光进行了单层膜的辐照实验,结果发现溶剂替换后激光损伤阈值有所提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
2	王珏	同济大学波耳固体物理研究所	79	1255	22.0	32.0
3	杨帆	同济大学波耳固体物理研究所	95	774	15.0	24.0
4	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
5	张志华	同济大学波耳固体物理研究所	52	554	14.0	22.0
6	孙骐	同济大学波耳固体物理研究所	17	263	8.0	16.0
7	付甜	同济大学波耳固体物理研究所	8	194	6.0	8.0