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摘要:
随着现代微电子工业的迅猛发展,电子元器件的尺寸越来越小、电路的集成度越来越高.尤其是近几年,由于制造工艺和手段的日趋成熟,使得高性能、高质量的新一代集成电路层出不穷.20世纪90年代发展起来的聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术.它大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析及修补的精度和速度,目前已经成为微电子技术领域必不可少的关键技术之一.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 新一代微细加工的手段聚焦离子束技术及组合系统
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 聚焦离子束 FIB 微电子技术
年,卷(期) 2004,(4) 所属期刊栏目 工艺与技术
研究方向 页码范围 53-55,62
页数 4页 分类号 TN305
字数 2192字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.04.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 顾文琪 中国科学院电工研究所 53 189 8.0 11.0
2 马向国 中国科学院电工研究所 15 74 4.0 8.0
传播情况
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2016(1)
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研究主题发展历程
节点文献
聚焦离子束
FIB
微电子技术
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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10002
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