离子束辅助低能碳离子注入工艺原理

• 作者: 周灵平 李德意 李绍禄 陈劲松 陈小华
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束辅助离子注入 低能离子注入 表面改性 离子束
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 离子束技术
• 页码范围: 14-18
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.3
• 字数: 1853字
• 语种: 中文

摘要

离子束辅助低能碳离子注入是在低能含碳离子束轰击样品表面并沉积膜层的同时采用中能离子束辅助轰击注入,它可在低温下将碳离子注入到样品表层足够的深度,其注入深度比动态离子束混合(DIM)增加1～2倍.离子束流实行交替变化,有利于保持较低的样品基体温度,且比恒束流注入的深度有明显增加.它对材料表面改性效果明显优于DIM工艺,离子注入改性后,40Cr钢表面显微硬度HV可提高一倍左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈小华	湖南大学材料科学与工程学院	66	1196	20.0	33.0
2	周灵平	湖南大学材料科学与工程学院	48	322	11.0	16.0
3	李绍禄	湖南大学材料科学与工程学院	26	292	10.0	16.0
4	陈劲松	湖南大学材料科学与工程学院	6	88	4.0	6.0
5	李德意	湖南大学材料科学与工程学院	44	411	11.0	19.0