低能离子注入聚苯胺薄膜结构性能研究

• 作者: 刘效增 吴洪才 封伟 曹猛 韦玮
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 离子注入 聚苯胺薄膜 表面电阻率
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: O632.7|O631.23
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2000.02.008

摘要

使用N+对聚苯胺溶液流延成膜进行离子注入改性,注入剂量最高为5.0 Zm-2,能量为10～40 keV.研究发现,本征态聚苯胺薄膜的电导率随着注入能量的增加而迅速增加,但随注入剂量的增加程度较缓慢,当能量增至36 keV时,电导率增加9个数量级.FTIR光谱图显示了N+注入后,使聚苯胺分子链部分C-C和C-H的σ键断裂,从而改善了它的导电性能.X-射线衍射说明,注入离子使聚合物微观结晶性能降低,无定形趋势增大.紫外可见光Uv-vis吸收表明,聚苯胺薄膜随着注入剂量的增大,在可见光区的吸收逐渐减弱,说明离子注入使其分子结构中的醌式比例大大降低,因此注入过程是一个还原过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴洪才		86	779	15.0	23.0
2	封伟		21	206	8.0	13.0
3	刘效增		10	44	4.0	6.0
4	韦玮		29	353	10.0	17.0
5	曹猛		25	109	6.0	9.0