Zn离子注入和退火对ZnO薄膜光学性能的影响

• 作者: 余华军 向霞 居勇峰 张晓艳 祖小涛 薛书文 袁兆林
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 离子注入 退火温度 吸收 光致发光
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 1918-1922
• 页数: 5页
• 分类号: O484.41
• 字数: 2823字
• 语种: 中文

摘要

利用溶胶凝胶方法在石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,将能量56 keV、剂量1×1017 cm-2的Zn离子注入到薄膜中.离子注入后,薄膜在500～900 ℃的氩气中退火,利用X射线衍射谱、光致发光谱和光吸收谱研究了离子注入和退火对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.结果显示:衍射峰在约700 ℃退火后得到恢复;当退火温度小于600 ℃时,吸收边随着退火温度的提高发生蓝移,超过600 ℃时,吸收边随着退火温度的提高发生红移;近带边激子发光和深能级缺陷发光都随退火温度的提高而增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	居勇峰	电子科技大学物理电子学院	6	21	3.0	4.0
2	祖小涛	电子科技大学物理电子学院	111	627	12.0	17.0
3	余华军	电子科技大学物理电子学院	5	28	4.0	5.0
4	向霞	电子科技大学物理电子学院	27	116	6.0	9.0
5	薛书文	电子科技大学物理电子学院	10	80	5.0	8.0
6	袁兆林	电子科技大学物理电子学院	6	16	3.0	4.0
7	张晓艳	电子科技大学物理电子学院	2	5	1.0	2.0