Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响

• 作者: 付玉军 李志杰 祖小涛 苏海桥 薛书文 袁兆林 陈猛
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnS薄膜 离子注入 X射线衍射 光致发光
• 年，卷（期）: 2009,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 7108-7113
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.10.072

摘要

利用真空蒸发法在石英玻璃衬底上制备了ZnS薄膜,将能量80 keV,剂量1×1017cm-2的Ti离子注入到薄膜中,并将注入后的ZnS薄膜进行退火处理,退火温度500-700℃.利用X射线衍射(XRD)研究了薄膜结构的变化,利用光致发光(PL)和光吸收研究了薄膜光学性质的变化.XRD结果显示,衍射峰在500℃退火1 h后有一定程度的恢复;光吸收结果显示,离子注入后光吸收增强,随着退火温度的上升,光吸收逐渐降低,吸收边随着退火温度的提高发生蓝移;PL显示,薄膜发光强度随退火温度的上升而增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祖小涛	电子科技大学应用物理系	111	627	12.0	17.0
2	李志杰	电子科技大学应用物理系	5	33	4.0	5.0
3	苏海桥	电子科技大学应用物理系	2	10	2.0	2.0
4	薛书文	湛江师范学院物理系	15	58	4.0	6.0
5	陈猛	电子科技大学应用物理系	5	38	4.0	5.0
6	袁兆林	电子科技大学应用物理系	6	16	3.0	4.0
7	付玉军	兰州大学物理科学与技术学院	8	51	4.0	7.0