激光预处理对光学元件膜层性能的影响

• 作者: 任寰 叶琳 吕海兵 李珂 蒋晓东 钟伟 黄祖鑫
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 光学膜层 激光预处理 机理 预处理过程
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TN246
• 字数: 3214字
• 语种: 中文

摘要

激光预处理是使膜层提高损伤阈值的一种有效手段,现在流行的激光预处理机理模型之一是缺陷消除模型.实验从对元件膜层激光预处理前后各项参数的对比出发,分析了激光预处理对膜层的影响,说明了光学元件膜层激光预处理的过程,是对膜层去除缺陷、固化、洁净的过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕海兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	49	310	9.0	14.0
2	任寰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	22	177	10.0	13.0
3	蒋晓东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	47	476	14.0	19.0
4	黄祖鑫	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	14	135	7.0	11.0
5	钟伟	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	17	63	5.0	7.0
6	叶琳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	6	60	4.0	6.0
7	李珂	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	3	27	3.0	3.0