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摘要:
介绍了非氧化物陶瓷(AlN+SiC)衰减器的封接工艺:用氢化钛和铜银粉在真空炉中进行活性金属化,抛光后在卧式烧氢炉中与可伐焊接,在立式烧氢炉中与铜腔片焊接;同时初步分析了封接机理:钛与熔化的Ag-Cu合金作用,生成活性物质Cu3Ti,然后Cu3Ti与陶瓷中的氧反应,在界面形成富钛的过渡层.
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文献信息
篇名 大功率耦合腔行波管衰减器的封接工艺及封接机理的初步分析
来源期刊 真空电子技术 学科 工学
关键词 衰减器 非氧化物陶瓷 活性金属法 封接工艺 封接机理
年,卷(期) 2004,(4) 所属期刊栏目 陶瓷-金属封接技术进步和应用专辑
研究方向 页码范围 7-9
页数 3页 分类号 TB756
字数 2764字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2004.04.003
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作者信息
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1 董笑瑜 1 1 1.0 1.0
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2006(1)
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研究主题发展历程
节点文献
衰减器
非氧化物陶瓷
活性金属法
封接工艺
封接机理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
出版文献量(篇)
2372
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