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X波段单片低噪声放大器芯片
X波段单片低噪声放大器芯片
作者:
周正林
彭龙新
林金庭
蒋幼泉
魏同立
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微波单片集成电路
赝配高电子迁移率晶体管
低噪声放大器
摘要:
报道了X波段0.5 μm GaAs PHEMT 全单片低噪声放大器芯片.该放大器芯片由四级级联放大电路构成.芯片面积为2.43×1.85 mm2.该放大器芯片在通带内测试结果为: 在工作条件VD=5 V(ID≤100 mA)下,增益>26 dB,噪声系数≤2.2 dB,输入、输出电压驻波比<1.6∶1,平坦度≤±1 dB,1 dB压缩功率≥15 dB·m,相位一致性≤±3°,幅度一致性≤±0.5 dB.芯片尺寸为2.43 mm×1.85 mm.
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文献信息
篇名
X波段单片低噪声放大器芯片
来源期刊
稀有金属
学科
工学
关键词
微波单片集成电路
赝配高电子迁移率晶体管
低噪声放大器
年,卷(期)
2004,(3)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
484-486
页数
3页
分类号
TN722.3
字数
1244字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
林金庭
30
238
10.0
14.0
2
魏同立
东南大学微电子中心
87
942
17.0
26.0
3
蒋幼泉
34
192
9.0
11.0
4
彭龙新
东南大学微电子中心
21
143
7.0
11.0
8
周正林
1
5
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
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二级参考文献
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共引文献
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节点文献
引证文献
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同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2004(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2013(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
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引证文献(2)
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2015(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
微波单片集成电路
赝配高电子迁移率晶体管
低噪声放大器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
稀有金属
主办单位:
北京有色金属研究总院
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7076
CN:
11-2111/TF
开本:
大16开
出版地:
北京新街口外大街2号
邮发代号:
82-167
创刊时间:
1977
语种:
chi
出版文献量(篇)
4172
总下载数(次)
13
总被引数(次)
39184
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