离子辅助沉积对 Nb2O5薄膜特性的影响

• 作者: 张德景 李明宇 顾培夫
• 来源期刊: 浙江大学学报（工学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: Nb2O5薄膜 离子辅助沉积 聚集密度 附着力
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 光学
• 页码范围: 1387-1390
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2919字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2004.10.030

摘要

为了提高Nb2O5薄膜的聚集密度,改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性,采用霍尔源离子辅助沉积(IDA)技术在K9玻璃基板上制备了Nb2O5单层薄膜,并与常规沉积条件下制备的Nb2O5薄膜作了比较.由于IAD技术使Nb2O5膜的聚集密度提高了14%,膜层折射率从常规工艺的2.03上升到2.18,膜层的附着力和牢固度从常规工艺的1.0×107N/m2提高到129.7×107N/m2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾培夫	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	141	1761	23.0	34.0
2	李明宇	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	26	145	8.0	10.0
3	张德景	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	2	6	1.0	2.0