真空退火对355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜性能的影响

• 作者: 占美琼 尚淑珍 贺洪波 邵建达 黄建兵
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 退火 结构 激光损伤阈值 吸收
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1389-1392
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2024字
• 语种: 中文

摘要

采用电子束蒸发沉积技术制备了355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜,并在真空中进行不同温度梯度的退火,用X射线衍射(XRD)观察了薄膜微结构的变化,用355nm Nd:YAG脉冲激光测试了薄膜的激光损伤阚值,用Lambda 900光谱仪测试了薄膜的透过和反射光谱.结果表明在工艺条件相同的条件下真空退火过程对薄膜的性能有很大的影响,退火温度梯度越小的样品,吸收越小,阈值越大,并且是非晶结构.选择合适的真空退火过程可以减少355nm Al2O3/MgF2高反射膜的膜层吸收,提高薄膜的激光损伤阈值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0
3	尚淑珍	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	42	4.0	4.0
4	黄建兵	中国科学院上海光学精密机械研究所	16	131	6.0	11.0
5	占美琼	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	85	5.0	6.0