兆声清洗技术分析及应用

• 作者: 李仁
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: RCA清洗法、高纯水 范德瓦尔斯引力 气穴效应 兆声清洗 压电陶瓷晶体
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 新设备与新技术
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 3596字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.01.017

摘要

主要论述兆声清洗技术原理及其在微电子清洗工艺过程中的应用.采用兆声清洗法可以减少化学品和高纯水的用量,在不破坏晶圆表面特征的前提下,提高对亚微细颗粒及各种污染物的去除能力及生产效率.