新型室温中远波段红外探测器的关键工艺研究

• 作者: 吴畯苗 张建铭 徐晨 李兰 杨道虹 沈光地 董典红 邹德恕 阳启明
• 来源期刊: 仪表技术与传感器
• 学科: 工学
• 关键词: MEMS 腐蚀 键合 光刻
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 传感器技术
• 页码范围: 3-4
• 页数: 2页
• 分类号: TN21
• 字数: 1904字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1841.2004.04.002

摘要

介绍了一种基于MEMS技术的新型室温中远红外波段硅基电容式红外探测器原理和制作工艺过程,并详细介绍了针对单面光刻机而采用的对准孔双面对准和键合对准技术、浓硼扩散EPW腐蚀停止技术制备超薄敏感硅膜以及薄膜的疏水处理等关键工艺.还对各环节所遇到的问题和其相应的解决方法进行了详细地阐述.